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面向大批量光学元件制造,EVG推出全新的多功能微纳米压印解决方案
2022-01-20 20:29:42   来源:麦姆斯咨询   评论:0   点击:

EVG7300是一款高度灵活的平台,提供三种不同的工艺模式(透镜成型、透镜堆叠和SmartNIL纳米压印),并支持从150 mm到300 mm的衬底尺寸。

EVG®7300 SmartNIL®纳米压印和晶圆级光学系统

EVG®7300 SmartNIL®纳米压印和晶圆级光学系统

据麦姆斯咨询报道,MEMS、纳米技术及半导体市场晶圆键合和光刻设备领先供应商EV Group(EVG),近日推出了EVG®7300自动化SmartNIL®纳米压印和晶圆级光学系统。EVG7300是EVG当前最先进的解决方案,在单个平台上结合了多种紫外工艺能力,包括纳米压印光刻(NIL)、透镜成型和透镜堆叠(UV键合)等。

这款为产业应用做好准备的多功能系统,旨在满足各种先进新兴应用的研发和生产需求,包括微米和纳米图案化以及功能层堆叠技术,例如,晶圆级光学器件(WLO)、光学传感器和投影器、汽车照明、用于增强现实(AR)头戴设备的波导元件、生物医疗器件、超透镜和超表面以及光电子学应用等。EVG7300支持最大12英寸晶圆,具有高精度对准、先进工艺控制和高通量等优势,可以满足各种自由曲面和高精度纳米/微米光学元件的大批量制造需求。

EVG®7300 SmartNIL®纳米压印和晶圆级光学系统

EVG技术总监Thomas Glinsner表示:“凭借在纳米压印技术领域的20多年积累,EVG将继续开拓这一重要领域,开发创新的解决方案,以满足客户不断变化的需求。最新推出的纳米压印解决方案EVG7300,将我们的SmartNIL全场压印技术与透镜成型和透镜堆叠技术结合在一起,打造了这款最先进的系统,具有市场上最精确的对准和工艺参数控制,为我们的产业客户提供了前所未有的灵活性,以满足其研究和生产需要。”

EVG7300系统既是一款独立工具,也可作为EVG的HERCULES®NIL全集成UV-NIL跟踪解决方案中的集成模块,可添加额外的预处理步骤,如清洁、抗蚀涂层、烘焙或后处理,以优化特定的工艺需要。通过结合对准平台改进、高精度光学、多点间隙控制、非接触间隙测量和多点力控制等技术,该系统实现了业界领先的对准精度(低至300 nm)。

EVG7300是一款高度灵活的平台,提供三种不同的工艺模式(透镜成型、透镜堆叠和SmartNIL纳米压印),并支持从150 mm到300 mm的衬底尺寸。EVG7300凭借印戳和晶圆的快速加载、快速对准光学元件、高功率固化以及小巧的占位面积,这款高效平台能够充分满足行业对新兴WLO产品的制造需求。

产品供应

EVG目前已开始接受该系统的订单,现在可以在EVG总部的EVG NILPhotonics®技术中心进行产品演示。有关EVG7300自动SmartNIL纳米压印和晶圆级光学系统的更多信息,请访问EVG官网。

关于EV Group

EV Group(EVG)是半导体、MEMS、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造设备和工艺解决方案的领先供应商。主要产品包括晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/纳米压印光刻(NIL)和计量设备,以及光刻胶涂布机、清洗机和检测系统。EVG成立于1980年,致力于为全世界各地的全球客户和合作伙伴提供服务和支持。

延伸阅读:

《AR/VR/MR光学元件和显示器-2020版》 

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