KLA-Tencor推出新款缺陷检测与检查系列设备
2013-08-23 20:31:35   来源：KLA-Tencor   评论：0   点击：

电子束检查结合光学检测有助于迅速发现、识别和追踪缺陷

KLA-Tencor 公司（纳斯达克股票代码：KLAC）宣布推出采用NanoPointTM技术的 2910 系列光学晶圆缺陷检测平台和新型 eDRTM-7100 电子束晶圆缺陷检查系统。为了满足集成电路制造商在先进设备上更快追踪缺陷的需要，这两款系统兼具快速和无缝接轨的优势，能够迅速发现和识别影响成品率和可靠性的缺陷。2910 系列平台通过改善缺陷捕获率，而 eDR-7100 系统通过提高检查分辨率，侦测并成像位于3的或垂直结构（如 FinFET）底部的特有缺陷。

KLA-Tencor 公司晶圆检测事业群的执行副总裁 Bobby Bell 表示：“我们的客户需要迅速改善运用复杂图案形成的工艺，从这方面产生的缺陷挑战促使我们在光学与电子束技术两方面不断创新。通过诸如我们的NanoPoint技术等新方法，我们不断推进光学检测的能力。这些进步让我们的 2910 系列产品达到了光学缺陷检测的一个新高度，并且同时保持光学检测的速度。电子束技术的进一步发展让我们的 eDR-7100 能够精确识别极其微小的缺陷，这些缺陷在其他电子束检查设备上则不一定可见。搭配使用这两款设备可为我们的客户提供高效的检测与检查分辨率，以验证其领先的工艺。”

KLA-Tencor 公司2910 系列在的NanoPoint专利技术独有缺陷发现能力基础上，在此基础之上，采用了新的光圈与检测模式。经证明，能够大幅提升对成品率至关重要的若干缺陷类型的捕获率，例如断线、短路和底端短路。此外，该设备与上一代的 2900 系列相比，其产能大幅提升，让工程师能够抽样检测更多晶圆，或检测其他工艺水平，更快识别成品率偏移问题。

eDR-7100 采用第四代电子束浸没式光学元件，不仅分辨率大幅提高，而且增加了检查模式，可对多种不同缺陷类型进行成像。该设备还具有能够在复杂图案特征或高纵横比结构的底部查找和识别缺陷的特殊功能。与 eDR-7000 相比，这些技术优势还可实现更高产能，让工程师能够抽样检测更多缺陷，更加准确地了解晶圆上的缺陷总体情况。由于集成电路晶圆厂越来越多地要求对诸如Surfscan® SP3等检测仪所检测的无图案晶圆缺陷进行电子束检查，因此 eDR-7100 配备了新型光学显微镜和 x 射线能谱仪 (EDX) 成分分析子系统，为裸晶圆缺陷的分类与表征提供帮助。

领先的集成电路制造商已经安装了多套 2910 系列光学检测设备（配置为 2910 或 2915）和 eDR-7100 电子束检查设备，用于开发新技术和提升产能。为了帮助晶圆厂节省资本投资，2910 系列和 eDR-7100 设备可分别从其前身，2900 系列和 eDR-7000 升级。为了保持高性能和高产能，满足最先进的生产需要，2910 系列和 eDR-7100 设备由KLA-Tencor 的全球综合服务网络提供支持。

关于 2910 系列光学检测系统的更多信息，请浏览2900 系列产品网页。关于 eDR-7100 电子束检查设备的更多信息，请浏览eDR-7000 系列产品网页。

关于 KLA-Tencor：

KLA-Tencor 公司是工艺控制与成品率管理解决方案的领先提供商，它与全球客户合作，开发先进的检测与计量技术。这些技术为半导体、MEMS、发光二极管 (LED)及其他相关纳米电子产业提供服务。公司拥有广泛的业界标准产品系列及世界一流的工程师与科学家团队，超过三十五年以来一直致力于为客户打造优秀的解决方案。KLA-Tencor 的总部设在美国加利福尼亚州米尔皮塔斯 (Milpitas)，并在全球各地设有专属的客户运营与服务中心。如需更多信息，请访问网站http://www.kla-tencor.com(KLAC-P)。