memsstar以领先的制造技术把握MEMS机遇
2013-04-28 02:19:34 来源：微迷 评论：0 点击：
memsstar的干法释放刻蚀工艺是非常有竞争力的技术，可以消除湿法工艺造成的结构黏附问题。memsstar的MEMS设备和工艺经验可以确保客户成功地过渡到干法工艺，并能覆盖从器件研发到大批量生产的各个阶段。
苏州麦姆斯信息咨询有限公司 王懿
随着MEMS市场的爆发性成长，越来越多的MEMS制造厂应运而生。根据Yole Development的研究报告表明：2012年全球MEMS设备市场规模达到5亿美元。随着国内MEMS代工厂的发展，以及苏州、淄博等地方政府的中试平台建立，对MEMS设备的需求与日俱增，而memsstar凭借其丰富的MEMS制造工艺和解决方案获得国内客户青睐。
来自苏格兰利文斯顿的memsstar是一家拥有近10年MEMS设备经验的公司。自从2004年memsstar进入MEMS领域，专注于开发MEMS刻蚀和沉积工艺设备，并获得全球市场认可。memsstar的干法释放刻蚀工艺是非常有竞争力的技术，可以消除湿法工艺造成的结构黏附问题。memsstar的MEMS设备和工艺经验可以确保客户成功地过渡到干法工艺，并能覆盖从器件研发到大批量生产的各个阶段。
memsstar的MEMS干法刻蚀设备誉满全球，销售地区涵盖美国、欧洲、日本、中国和台湾，且近3年的销售年增长率均超过20%。memsstar总经理Tony McKie指出：“市场上的增长反映了我们为MEMS行业带来的重要工艺经验的价值，并使得我们成为一家实力强大的设备公司，为客户提供安全可靠的技术。虽然中国的MEMS产业刚起步，代工厂还不够成熟，我们的中国客户以科研单位居多，如中国电子科技集团公司旗下的研究所。但是我认为未来MEMS制造和封测优势在中国，所以将中国作为重点关注区域，希望拓展更多的中国市场。”
Tony McKie非常看好MEMS市场前景：“随着智能手机、平板电脑等消费电子的爆发，全球MEMS产业快速发展，每年的市场增长率都超过15%。苹果和三星是消费与移动应用领域的两个最大MEMS买家，如加速度计已经成为移动设备标配、苹果的iPhone 5中含有3个MEMS麦克风、三星的Galaxy S3和Note 2都含有MEMS压力传感器。展望未来，每个智能手机可能会拥有10个以上mems器件。巨大的市场应用前景促使MEMS产业蓬勃发展，未来5年将继续保持高速发展势头。”
MEMS技术日益增长的市场机会，正在对制造商们提出更高的要求，以提供多样化的器件，同时提高质量和性价比。为满足这些需求，干法刻蚀工艺起着至关重要的作用。Tony McKie介绍其优势技术：“我们的干法释放刻蚀工艺利用无水HF或XeF2来去除氧化物牺牲层，从而释放MEMS机械结构，并且完备的SVR工艺组合支持氧化物和硅释放技术，实现无以伦比的刻蚀率、卓越的均匀度和非常高的良率，可用于加速度计、陀螺仪、麦克风、RF MEMS、压力传感器和红外传感器的生产。与传统的湿法刻蚀工艺相比，SVR工艺具有以下优势：（1）完全去除牺牲层而不损害机械结构或引起黏附；（2）工艺过程易于控制，具有很高的重复性和均匀性；（3）省去湿法工艺中的表面准备、引入酸、中和以及随后的干燥等步骤。”
此外，memsstar还拥有很多MEMS专利和下一代MEMS制造技术，在刻蚀和沉积工艺领域经验丰富，可为Fabless公司提供专业的工艺设计和材料选择服务，使得客户更快实现量产，并获得优异的器件性能。Tony McKie表示：“对跨众多平台的全新和再造工艺开发的支持是我们与其他供应商的关键区别之一。memsstar平台专为MEMS & IC制造而生，期望用我们的专业技术满足客户的各种需求。”