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Tanner EDA成像和显示设计解决方案
2018-05-20 09:33:50   来源:麦姆斯咨询   评论:0   点击:

无论您是设计成像或显示器件,是使用传统的全定制原理图模拟方法还是采用最新的基于HDL设计的混合信号方法,您都需要一套灵活且具有完整功能的工具流,让您的设计完成得更简单和更快捷。Tanner EDA就提供了这样一套包含所有内容的工具流。

Tanner模拟/混合信号设计流程推动成像和显示设计与验证的创新和生产力

Tanner模拟/混合信号设计流程推动成像和显示设计与验证的创新和生产力

推动创新和生产力

无论您是设计成像或显示器件,是使用传统的全定制原理图模拟方法还是采用最新的基于HDL设计的混合信号方法,您都需要一套灵活且具有完整功能的工具流,让您的设计完成得更简单和更快捷。Tanner EDA就提供了这样一套包含所有内容的工具流,再加上优质的应用服务,以满足您未来设计的需求。

没有其他EDA供应商能够提供一套像Tanner EDA软件这样与需求紧密结合的工具流。不同于大多数其他供应商追逐摩尔定律,将SoC设计重点放在纳米工艺尺寸,Tanner专注于支持超越摩尔应用领域的开发厂商,包括成像和显示、电源管理、医疗器件、传感器、全定制IP和MEMS。

在本篇文章中,您将看到我们如何通过使用Tanner设计工具来帮助您获得成功,并了解在这个领域,其他人是如何通过Tanner EDA软件实现他们的创新。

Tanner EDA成像和显示设计解决方案

Tanner AMS设计套件

Tanner EDA软件的模拟/混合信号(AMS)IC设计流程支持成像和显示设计的各个方面,从设计输入到仿真和物理版图,再到布局后验证。

一种高度创新的晶圆级数字图像传感器

成功范例

上图展示了一种高度创新的晶圆级数字图像传感器。这是由英国科学和技术设施理事会(STFC)的卢瑟福阿普尔顿实验室(RAL)开发的,主要面向医学成像应用领域。STFC的CMOS传感器设计小组成功开发这款CMOS图像传感器的关键之一是其模拟/混合信号IC的设计、版图和验证使用了Tanner先进的模拟工具。这款图像传感器大小为120 x 145 mm,可有效地使用整个200 mm硅片进行生产,由全球领先的特种半导体代工厂TowerJazz®生产制造,并使用了其尖端、高良率的CMOS传感器工艺。

数字电路设计

使用Verilog,您可以在S-Edit编辑器中使用上下文相关的文本编辑器来创建数字设计,使用ModelSim®数字仿真器进行仿真,用集成的Incentia® Design Craft工具进行综合设计,然后用Tanner P&R工具执行布局和布线。任何延时/功耗的优化都可以使用Incentia工具执行预/后布局来进行。

模拟电路设计

您可以在S-Edit编辑器中使用SPICE和/或Verilog A来创建定制的模拟设计,然后使用Tanner的全功能模拟仿真器T-SPICE来仿真。然后在L-Edit编辑器中执行版图布局,它支持全定制和自动辅助的原理图驱动版图(SDL)。

使用S-Edit设计环境,可以创建整个设计的系统级视图,创建自定义模拟原理图,并将它们与用Verilog编写的数字模块连接起来。您可以创建测试平台并通过一个简单的视图管理所有的数字、模拟和混合信号仿真数据。

设计验证

完成您的设计之后,Tanner网表和寄生提取工具可以帮助您完全仿真最终的物理设计。领先的Tanner Calibre® One验证工具确保符合代工厂的制造规则,帮助您“一次性完成正确的设计”。

代工厂支持

Tanner EDA软件与领先的成像和显示技术供应商,如TowerJazz和X-Fab®紧密合作,以确保可供您使用最佳的设计、建模和版图选项。

欲了解更多关于Tanner EDA软件解决方案,请联系我们,并可要求一个为期30天的免费试用版工具套件。

特点和优点:
■ 完整的工具流,可优化成像和显示的设计
■ 统一直观的用户界面
■ 快速学习和掌握
■ 优质的客户支持服务
■ 业内领先的性价比优势
■ 设计方法灵活,支持传统模拟设计流程和使用HDL设计数字协同仿真
■ 全流程涵盖大面积、混合信号设计的设计、仿真、版图和验证
■ 数字Verilog仿真
■ 模拟仿真
■ AMS协同仿真
■ 综合
■ 布局和布线
■ 全定制和原理图驱动模拟版图
■ 代工厂认证的PDK和验证
■ 支持iPDK和Open Access数据库

麦姆斯咨询和Mentor建立战略合作伙伴关系,麦姆斯咨询代理销售Tanner系列EDA软件,并开展专题研讨会及培训课程。

联系方式:
麦姆斯咨询
联系人:王懿
电话:17898818163
电子邮箱:WangYi@MEMSConsulting.com

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