Tanner L-Edit IC
2018-05-08 20:21:03   来源：麦姆斯咨询   评论：0   点击：

Tanner L-Edit IC芯片视图：版图工具是一个综合的模拟/混合信号（AMS）IC物理设计环境

完整的IC物理设计环境

Tanner L-Edit IC是一款提供模拟/混合信号（AMS）IC物理设计环境的工具，为您提供快速高效完成版图设计所需的所有功能，包括：
■ 原理图驱动版图（SDL）功能，允许您第一时间创建与原理图相匹配的版图
■ 在版图编辑过程中，交互式DRC会实时显示违规情况
■ 高亮显示用于连接的可视化节点
■ Pad输入/输出（I/O）的交叉引用，便于生成绑定报告

L-Edit通过直接读取和写入Open Access数据库来提高您的工作效率，使您可以与第三方工具共享设计。在多用户支持的团队中工作，可以在开始编辑时隐式锁定单元，然后在窗口关闭时释放单元。通过直接使用代工厂提供的文件来节省时间，从而避免手动设置技术信息。利用L-Edit的物理设计功能最大限度地提高效率，减少您的CAD经理的支持负担，并通过平台的独立性和灵活的授权许可，轻松实现启动和运行。

精确的创建版图

L-Edit通过使用任意形状和曲率的多边形，使您可以执行复杂的布尔运算和派生层操作，从而提供更高的精度。对组内对象执行“与（AND）”、“或（OR）”、“异或（XOR）”、“减（Subtract）”、“增长（Grow）”和“缩小（Shrink）”。在任意技术单元中显示坐标和距离值，并在任意形状周围自动添加保护环。通过将多个版图功能映射到单个按键上，以进一步提高您的工作效率。

L-Edit其他功能：
■ 在无限数量图层上执行具有全角度和曲面多边形的完整层次级物理版图
■ 使用90°、45°、全角度，以及曲线绘图模式，以最快的呈现方式来查看您的设计
■ 使用命令行界面实现运行时自动化

使用SDL加速版图设计

■ 在网表中读取并自动生成参数化单元，并将其加入到您的设计中
■ 显示飞线，允许您摆放模块以实现最小化布线拥塞
■ 将现有几何图形标记为特定电气连接的一部分，且允许通过电气连接选择及拆分几何图形
■ 执行工程变更命令（ECO）且高亮显示网表中的差异
■ 在T-Spice、HSPICE、PSpice、结构化Verilog或CDL格式中使用网表文件
■ 使用Tanner的SDL短路和开路连接性检查器检查连接性问题
■ 使用SDL的自动布线器组装芯片

L-Edit还支持被称为T-Cells的参数化单元。使用T-Cells，创建由用户定义的输入参数和版图生成代码组成的多功能源单元，T-Cells扩展了传统的几何单元，包括L-Edit用户可编程接口（UPI）的灵活性和自动化。

L-Comp拥有一系列高级组合功能，为创建T-Cell代码提供了一个简单的工具包。在设计中使用L-Comp能有效地创建、放置和对齐单元实例。

有效地导航

L-Edit提供了一个内置的库导航器，使您能够：
■ 通过自顶向下和自底向上的层次化视图，非实例化的单元视图或按修改日期排列的单元视图，有效地跨越设计层次结构
■ 从库文件、其他设计文件或当前设计数据库拖放单元到版图中
■ 查看任何层次结构的任何级别的版图细节
■ 锁定或解锁单元以保护设计免受任何更改
■ 在当前层次或整个设计中，轻松地将一单元的实例替换为另一单元
■ 利用L-Edit的多库支持最大化地重复利用IP
■ 在原理图、版图和LVS报告间进行交互，且高亮显示电气连接或器件

整个编辑过程的完整控制

L-Edit为您提供了掌握编辑过程所需的灵活性和控制力。您可以通过同时编辑多个对象的属性来极大地简化流程。使用L-Edit您可以立即进入任何对象的层次结构，从而轻松地编辑边缘、拐角和弧线。您可以快速拉伸或收缩多个边缘，为版图腾出更多的空间。

Tanner L-Edit交互式DRC在您编辑版图时实时显示违规情况，帮助您第一时间创建简洁的、无误差的版图

其他有助于简化编辑的功能包括：
■ 使用虚拟图层面板，直接从版图中改变当前的绘图层
■ 执行无限次的撤销和重复操作
■ 执行全角旋转、翻转、合并、掏空、切片操作
■ 通过光标捕捉到对象的顶点、边缘、中点、中心点、交叉点和实例，加速绘图和编辑
■ 执行一键式水平或垂直对象对齐、对象等距，或对象的水平、垂直、二维阵列的平铺
■ 指定一个参考点进行编辑操作，如对象旋转、翻转、移动，或使用基点位置进行实例放置

通用的工作环境

L-Edit具有易用性的优势，可以节省时间和金钱：
■ 从价格合理、可定制、易于管理的工具中提供强大的功能
■ 易于学习
■ 允许您导入和导出GDS、OASIS、DXF、Gerber和CIF文件格式
■ 提供多语言菜单（英语、日语、简体、繁体中文、德语、意大利语和俄语）
■ 自定义和过滤层调色板，只显示文件中使用的图层、当前单元或单元及其层次结构，以便更快地完成版图
■ 使您能够轻松地剪切和粘贴版图到您的文档中

其他产品特点：
■ Cross-section显示器
■ 版图之间的比对
■ 区域计算器
■ 用于高分辨率透明度MEMS掩膜的PostScript掩码导出
■ Pad输入/输出（I/O）的交叉引用，便于生成绑定报告
■ 高分辨率绘图仪支持L-Edit中使用的相同绘图方案，包括图例、标尺和标题
■ 使用晶圆工具在晶圆上植入最大数量的裸片并标记所有裸片
■ 曲线工具在版图中快速地添加倒角和圆角。它可添加与走线等宽的圆角，并在处理已转换为全角对象的弯曲对象时将多条边作为单边进行处理
■ 图层填充很容易将虚拟填充添加到您的版图中，以满足深度亚微米设计的密度要求
■ 掩膜偏差可以按层对层进行简单的掩膜调整

为参数化器件生成版图

Tanner DevGen（以前称为HiPerDevGen）为最常用的器件提供版图生成器。其对于任何流程都可以轻松配置以帮助确保DRC正确的版图。器件包括MOSFET、电阻、电容、电流镜以及差分对发生器。具有SDL的DevGen可识别电流镜和差分对配置，并生成一致的、高质量的版图，该版图具有寄生感知能力并保证最佳匹配。对于特定器件，使用L-Edit的自动版图T-Cell生成器快速完成T-Cell库。

创建自动化宏

L-Edit强大的用户可编程接口（UPI）允许您创建自动化版图布局、几何合成、批量验证和高级分析的宏。通过将多个版图功能映射到单个按键来进一步提高工作效率。UPI宏使用TCL、C和C++语言编写，可以直接在L-Edit中执行或编译为DLL。

使用交互式DRC修改版图

编辑版图时，L-Edit交互式DRC实时显示违反规则的行为，有助于您第一时间创建紧凑的、无错误的版图。交互式DRC同时检查同一单元中的对象之间的冲突，并通过单元层次结构进行检测。您可以在编辑时显示到两个最接近的边沿的距离，并通过不允许绘制或编辑导致违反的形状来防止交互式DRC发生冲突。

节点高亮显示以简化验证

L-Edit节点高亮显示提供连接可视化，因此您可以快速查找并修复LVS问题。

■ 指向版图中的对象，不管层次结构如何,显示所有的基于一组连接规则所连接到的几何图形
■ 高亮显示原理图网表和从版图提取的网表之间的差异
■ 以不同的颜色查看多个节点
■ 查找短路和开路
■ 在LVS期间，显著提高设计效率

特点与优点：
■ 完整的层次级物理版图，包括全角和曲线多边形
■ 快速呈现
■ 通过多用户支持来读取和写入Open Access
■ 原理图驱动版图（SDL），可导入网表并自动生成参数化单元，并将它们实例化到您的设计中
■ 导入Cadence Virtuoso技术并显示文件
■ 在您编辑时，交互式（实时）DRC会显示违规情况
■ 在原理图、版图和LVS报告之间进行交互，且高亮显示电气连接或器件
■ 高亮显示用于连接的可视化节点
■ 对象捕捉以实现快速、准确的版图
■ 通过参数化单元的自动实例化、实时电气连接飞线、电气连接完成追踪、几何图形标记/高亮显示/通过电气连接和ECO追踪来提高布线效率
■ Pad输入/输出（I/O）的交叉引用，便于生成绑定报告
■ 在Windows或Linux操作系统平台上独立运行
■ 操作直观易学
■ 优质的客户支持服务
■ 灵活的授权许可

推荐培训课程：

为了更好地帮助IC和MEMS技术人员熟悉和使用Tanner系列EDA软件，包括L-Edit、SoftMEMS、S-Edit、SDL Router等模块，Mentor将在麦姆斯咨询5月25日至5月27日举办的『“见微知著”MEMS封装和测试培训课程』中增加“MEMS设计工具Tanner软件及应用”课程，并分享MEMS设计公司和代工厂的使用案例及经验，时间为5月24日下午。

欢迎广大IC和MEMS朋友联系麦姆斯咨询，我们会竭诚为您服务，帮您利用先进的EDA软件加速芯片设计，早日达到产品量产的彼岸。

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