开辟中国光刻胶自主知识产权之路
2014-11-17 13:30:38   来源：微迷   评论：0   点击：

——采访北京科华微电子材料有限公司公司董事长兼总经理陈昕女士

第82届中国电子展（CEF）和第十一届中国国际半导体博览会暨高峰论坛（IC China）于2013年11月13-15日在上海新国际博览中心举行，北京科华微电子材料有限公司在此期间隆重推出DK系列248nm高档光刻胶新产品,填补了我国到目前为止没有8英寸及以上尺寸高档光刻胶的空白，产品已经完成测试，即将经过中芯国际和华虹等公司的验证，开始量产。

北京科华微电子材料有限公司董事长兼总经理陈昕女士是携技术和资金回国创业的光刻胶专家，她在美国一家知名的光刻胶公司工作15年之久，是公司共同创始人之一。2005年，国家“十五”期间“863”项目对光刻胶研究立项，应国家科技部邀请，陈昕女士回国主持这项工作。她牵头组织国内高校、科研院所和IC企业建立了国内的光刻胶产学研联盟，为我国高档光刻胶本土化生产和技术水平的提高做出了重大贡献，成为我国光刻胶行业的领军人物。

陈总介绍：光刻胶作为微电子和半导体集成电路的关键基础材料，由于它在产业链中的位置和作用十分重要而不可或缺，在产业发展过程中无法忽略或绕过。光刻胶是技术门槛和资金门槛都比较高的行业。我国光刻胶起步较晚，上个世纪九十年代中期才刚刚起步，那时的技术水平落后于世界先进国家20-30年。2005年回国以后，我们从召研究生培养人才做起，经过7-8年的努力，现在已经拥有了一支自己的高水平研发团队和具有国际先进水平的光刻胶研发实验室，并建立了国内第一条具有自主知识产权的高档光刻胶生产线，推出了一系列中高档光刻胶产品。可以讲，现在我国光刻胶与国外先进水平之差已经缩短到10年左右。

陈总说，从全球市场来看，在世界光刻胶领域排名前7位的厂商占有约90%的市场份额，市场垄断程度很高。目前中国光刻胶市场大约为15亿元左右，而国产光刻胶却只占有2亿元，大约87%的市场要靠进口光刻胶产品满足。因此，中国光刻胶市场挑战和机遇并存。我们最新推出的248nm光刻胶，系中国光刻胶市场上单一品种市场占有率最高的光刻胶品种，针对8英寸和12英寸晶圆生产线应用，我国目前拥有7条12英寸、17条8英寸的集成电路生产线(包括在建线)，光刻胶的市场需求巨大。

陈总很自豪地表示：作为海外留学生，所学的专业被自己的国家需要，能够为祖国发展尽一份力是非常幸运的。作为中国第一家在光刻胶领域拥有自主知识产权的高新技术企业，北京科华微电子材料有限公司集光刻胶研发、生产、销售于一体，目前拥有国内第一条具有自主知识产权的高档光刻胶生产线和具有国际先进水平的光刻胶研发实验室，研究开发出了一系列超大规模集成电路、TFT-LCD、LED制造用高档光刻胶及配套试剂产品，并完成了国家和北京市多个光刻胶方面的重点科技项目。

“十五”期间，北京科华微电子材料有限公司还与北京化学试剂研究所合作承担并完成了国家“863”超大规模集成电路配套材料重大专项课题——193nm深紫外光刻胶的研究，研制的193nm深紫外光刻胶通过了美国SEMATECH实验室12英寸硅片的应用测试，实用分辨率达到了0.1μm的水平。

北京科华微电子材料有限公司自2009年投产以来，经过三年的努力在2012年开始进入快速增长期，2012-2015年公司的年销售额增长率将达到30%-50%。公司将在2020年进入国际一流光刻胶企业的行列，为中国的集成电路事业贡献力量。