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乐普科采用无掩膜激光直接成像技术制作微流体通道
2015-02-09 09:43:38   来源:麦姆斯咨询   评论:0   点击:

随着激光技术的发展,将激光技术直接应用于微米级元件的制作,价格低廉且速度更快。乐普科(LPKF)ProtoLaser LDI是一款无需掩模的激光直接成像设备,一束激光即可直接完成感光胶的曝光。操作简单,内置承载装置,将样品放入即可直接制作。

随着激光技术的发展,将激光技术直接应用于微米级元件的制作,价格低廉且速度更快。乐普科(LPKF)ProtoLaser LDI是一款无需掩模的激光直接成像设备,一束激光即可直接完成感光胶的曝光。操作简单,内置承载装置,将样品放入即可直接制作。

 LPKF ProtoLaser LDI激光直接成像设备可以在感光胶上制作微米级微结构

功能强大的桌面型设备:LPKF ProtoLaser LDI激光直接成像设备可以在感光胶上制作微米级微结构

LPKF与斯洛文尼亚公司Aresis以及卢布尔雅那大学共同研发了新一代低成本快速制作微结构设备。紫外激光直写光刻设备(LDI)在光致抗蚀基材上直写图形,比传统掩膜光刻工艺优势更加明显。

LPKF LDI对于样品的快速制作极大的推动了微流体通道以及微结构领域的研究和开发。实验室生物芯片制作设备很大程度上促进了芯片小型化的制作过程并且减少了液体采样量,避免样本量的浪费。LDI设备为医学、生物学、化学和物理学等领域的研发带来了诸多可能性。制成的样品可应用于血液细胞分析,医疗诊断和筛查、传感器(化学、生物、环境和武器技术;汽车工程),化学合成和物理实验。

微流体通道的制作

在从10纳米级到100微米级的微流控的生产制造中主要有三种加工工艺。

传统光刻的方法主要适合于大规模的生产。对于修改频率高的样品设计或小批量的制作,传统光刻流程就太过复杂了。

在电子束光刻中,电子束被电磁场聚集成微细束照到电子抗蚀剂(感光胶)上,从而形成微结构。电子束分辨率20-50nm。然而这个过程需要特殊抗蚀基材、导电基板、高真空,且花费时间很长。LPKF ProtoLaser LDI则具有可快速扫描的激光束,无掩膜激光直写光刻技术制作微结构,加工过程快速、尺寸精准、边缘平滑、拐角陡直。

LDI:快速、柔性、精准

LPKF ProtoLaser LDI可用于制作微流体通道,MEMS、BioMEMS、集成光学、微结构光子实验。在精度方面,LDI优于所有类似的需要掩膜的光刻设备。投资成本远远低于电子束光刻以及许多掩模对准装置。即使宽度小于1μm的网格LDI也能够轻松应对。

产品其他特点:激光波长为375nm TEM00紫外激光光束直写,这也可以用于传统的光刻工艺。软件可控的激光光斑尺寸(1 - 3 μm)可以用来满足不同的精度需求,集成的一体式摄像头靶标识别对基材进行精准对位,自动校准,也能够对尺寸较大的样品进行制作和拼接。

 SU8负性感光胶上制作几何尺寸精准的柱形微结构

SU8负性感光胶上制作几何尺寸精准的柱形微结构

ProtoLaser LDI制作的样品将在2015年4月11日第十四届“微言大义”研讨会(中国电子信息博览会期间)进行展示,会议详情:www.MEMSeminar.com

联系方式:
丁怡
邮箱:vicky.ding@lpkf.com
电话:022-23785318

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