Heidelberg Instruments先进的光刻技术亮相2016苏州纳博会
2016-10-31 12:32:03   来源：麦姆斯咨询   评论：0   点击：

据麦姆斯咨询报道，10月26日，由中华人民共和国科学技术部、中国科学院、江苏省人民政府主办的“2016传感器与MEMS技术产业化国际研讨会暨科研成果产品展”与“中国国际纳米技术产业博览会（CHInano 2016 Conference & Expo）”在苏州国际博览中心同期举办。Stella International（光映科技）携手Heidelberg Instruments（德国海德堡仪器）亮相纳博会。

Heidelberg Instruments是激光掩模板与无掩模光刻绘图设备的世界级领导品牌，成立于1984年，公司总部位于德国海德堡市，在亚洲、欧洲和北美洲都设有客户服务办公室。Heidelberg Instruments现已发展成为研发和制造并重，利用复杂激光基于非掩膜正交系统技术完成微米级图形绘制的领军企业，这些系统可应用于集成电子领域的高精度光掩膜版制作、平面显示技术、MEMS以及微米乃至纳米级的微光路。其客户包括了全球主要的以微米纳米技术为研究方向的科技公司，以及在电子、通讯和信息技术方面最前沿的研究机构。

德国海德堡仪器MLA产品总监Steffen Diez发表演讲

“通常情况下，一台多用户设备或中等产量的FAB每年要消耗数十万美元的光掩模。同时，工作人员利用工具对掩模进行处理、清洁或维修还需要额外的投入。另外，这些工具设备还需要占用宝贵的洁净室空间。海德堡的无掩模激光光刻系统不仅能节省上述成本支出，还能大幅缩短器件制造周期，这意味着时间成本的降低。” Heidelberg Instruments全球销售副总裁Alexander Forozan说，“除此之外，我们的无掩模激光直写技术的其它优势还包括：避免基底损伤的无需接触曝光、更高的精度、实时在线动态图形化、数字化刻蚀，以及先进的三维灰阶刻蚀，从而实现微型光学器件和MEMS器件的3D结构。”

海德堡MLA100台式科研用无掩模光刻机

“海德堡MLA系列是首款利用光罩对准曝光机能够真正替代标准紫外光刻的产品。目前为止，直写光刻设备还无法与标准刻蚀设备竞争，因为前者速度太慢、使用复杂，并且还不能与所有标准刻蚀应用相兼容。MLA系列产品的速度非常快，能够提供高分辨率的图形化，且操作非常简便。MLA系列产品为无需接触曝光系统，相比掩模光刻技术更加灵活。” MLA产品总监Steffen Diez说。

海德堡MLA150无掩模光刻机

“Heidelberg Instruments公司的无掩模刻蚀产品最小曝光面积仅为几个微米，最大支持1.4米的宽度。” Alexander Forozan说，“激光器是我们的核心技术之一，系统通过调整激光器，在光刻胶或其它光敏材料表面制作微米或纳米结构。激光器的重要特性包括波长、稳定性、功率、成本及寿命。”

高分辨率高深宽比二维结构

“后三个特性关乎无掩模光刻的经济性。更大的功率，意味着更高的处理量和产量。更长的寿命，意味着更少的故障和维护开支。稳定性和波长主要关乎系统性能。更稳定的激光器，意味着系统异变更少，而激光器的波长则是使光刻胶聚合固化的关键因素。Heidelberg Instruments的激光光源主要包括532 nm绿色二极管激光器，功率100 mW；405 nm二极管激光器，最大功率300 mW；以及一款355 nm双泵固态激光器，最大功率10 W。根据刻蚀工艺和光刻胶的不同而选择不同的激光器。”Forozan说。

关于Stella International

Stella International（光映科技）成立于1993 年，是Heidelberg Instruments大中华区总代理，一直以专业技术能力的高科技行销服务公司自许，多年来一直致力于引进国外相关尖端的电子设计及制造所需使用的软硬件设备及材料。不论是PCB HID 或是 IC 载板，甚至未来的导光板与增亮膜上面所必须使用的微透镜阵列（micro lens array）等等需求，Stella不仅能够提供相应的生产设备，还能够提供一整套完整的生产解决方案，帮助客户建立良好的设计及生产环境。